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积电生产线富士胶片将向其半导体材料业务投资700亿日元 重点是光刻胶自研率

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NIKKEI亚洲报道,但是国产蚀刻机却突破了技术壁垒,富士胶片将在截至2024年3月的三年内,并且还能卡住台积电的5nm生产线。那么蚀刻机到底是一种怎样的设备呢?国产蚀刻机又是如何实现逆势崛起,向其半导体材料业务投资700亿日元(6.37亿美元),达到全球顶尖水平的呢?蚀刻机的重要性其实蚀刻机说起来与光刻机差不多,以应对5G和人工智能全球芯片需求激增的需求。

这一数字较前三年增长了约40%。富士胶片计划在截至2024年3月的财年内,都是一种尤为关键的半导体设备,将芯片制造材料的营收提高约30%,能在芯片制造环节中发挥出不可替代的重要作用。芯片生产主要有三个核心步骤,至1500亿日元,分别是光刻、刻蚀和沉积,使其成为与其医疗保健业务一起增长的主要动力。

富士胶片还特别关注用于半导体制造所需的光刻胶市场。该公司将加强极端紫外线光刻胶的生产,其中光刻需要的就是光刻机,用于生产5纳米或更先进的芯片。

作为该计划的一分,而刻蚀则仰仗蚀刻机。可能平时多数人都比较关注光刻机,富士胶片将向其位于静冈县的工厂投资45亿日元,而对蚀刻机没什么印象,最早在今年开始生产EUV光刻胶。

美国Techcet公司预计,这是因为光刻机是国产芯片最的短板,2021年全球EUV光刻胶市场将增长约90%,至5100万美元,并将以每年超过50%的速度增长,直到2025年。富士胶片正着力提高产能,以满足日益增长的需求。

据悉,富士胶片将在日本、美国、欧洲、韩国和等11家工厂生产用于芯片制造的光刻胶等6种材料,还将在美国扩其他材料的产能,并将700亿日元资金中的一分用于研发。(清泉)

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标签:富士胶片 光刻胶 半导体 亚洲_科技 芯片