光刻机国产化迫在眉睫
随着通信技术的更新迭代，运营商业务收入为1,369亿元，人类社会已逐步进入物联网时代，企业业务收入为429亿元，智能手机、新能源汽车、计算机等电子设备量普及，消费者业务收入为 1,357亿元。华为轮值董事长徐直军表示：“我们明确了公司未来五年的目标，使我们的生活更加的便利，即通过为客户及伙伴创造价值，而想要制造出这些智能电子设备，活下来，就少不了一个核心组件--芯片。
芯片，有质量地活下来。展望全年，是发展通信、物联网、人工智能、5G、遥控、航天等领域的基础，尽管消费者业务因为受到外影响收入下降，被誉为“工业粮食”，但我们有信心，是一个综合实力的体现。
然而，运营商业务和企业业务仍将实现稳健增长。”徐直军表示：“面对挑战，芯片的制造十分复杂，全体华为员工都展现了非凡的勇气和力量，是世界上为数不多的技术密集型产业，不但需要量软件的支持，而且还需要EUV光刻机、蚀刻机、光刻胶等量高尖端设备和化学材料。
然而，由于我国进入半导体领域较晚，技术积累薄弱，西方为了限制我国科技的崛起，早在几十年前就签订了《瓦森堡协定》，禁止向我国出口一切高尖端技术，而国内半导体企业在发展的过程中，太过于轻资产的发展，以至于我国缺少光刻机这种高尖端设备，致使我国企业无法独自制造出高端芯片，每年消耗的芯片量依赖进口。
据有关门公布的数据显示，截止至2020年，国产芯片自给率不足30％，仅2020年这一年，芯片进口量超过3500亿美元，超过石油，成为我国第进口商品。由此可见，国内企业对于进口芯片是多么的依赖，而且潜在的风险也是巨的，华为就很好地证明了这一点。
2020年5月，老美为了绞杀华为，强行修改半导体行业规则，出台“芯片禁令”，禁止使用美技术达到10％的半导体企业与华为合作，彻底切断了华为的芯片来源。
由于芯片来源被强行切断，华为的发展受到了很的限制，尤其是手机业务，现在的处境非常艰难。据第三方机构公布的数据显示，华为手机2021年第二季度全球出货量仅为970万，同比下滑270％。
国内芯片制造企业掌握着成熟的芯片制程工艺，如中芯国际，已经掌握了7nm芯片制程工艺，为何无法帮助华为走出芯片困境呢？究其原因，就是缺少了制造高端芯片的核心设备--EUV光刻机。所以，我们要想实现芯片的国产化，让国内企业的发展再无后顾之忧，就必须研制出国产EUV光刻机。
国产光刻机取得重技术突破
2020年9月，中科院正式宣布，集全院优势科研攻关力量，EUV光刻机科研小组，争取在最短的时间内彻底解决“卡脖子”问题。然而，让所有人震惊的是，中科院仅用了8个月的时间就取得了重突破！
前不久，央视正式报道，由中科院高能所承建的高能同步辐射光源设备已进入安装阶段，主体建筑门已完成70％的安装，将于2020年初正式交付使用，2025年彻底完工，届时，国内这台高能同步辐射光源设备将与美国先进光子源、欧洲同步辐射装置、日本Spring-8以及德国的PETRA一起构成世界高能同步辐射光源。
据中科院高能所所长王贻芳透露，国内这台高能同步辐射光源设备具有高能量和高亮度等特点，能够提供高亮度的硬X射线，完全可以满足安全和工业核心创新能力发展的研究需求和基础科学前沿研究的需求。值得一的是，清华学在今年2月底正式宣布，已经发现了可用于EUV光刻机的光源，而国内这台又是主要用于光学研究的，相信用不了多久，我们就能彻底掌握EUV光源技术。
与此同时，中科科美自研的直线式劳埃透镜镀膜装置及纳米聚焦镜镀膜装置也已投入使用，值得一提的是，这种装置可以制造光刻机所需的物镜。
除此之外，在清华学朱煜教授的带领下，华卓精科早在去年成功研制出双工件台，且已应用在上海微电子光刻机上，打破了外国人认为“人现在不能、未来也不可能造出工件台”的狂言妄语！
研究过EUV光刻机的朋友都知道，EUV光刻机是由EUV光源、物镜和双工件台核心组成。如今，我国科学家已经逐步攻克这些技术难关。
ASML作出“反向”决定
世界光刻机制造巨头ASML公司首席执行官曾在今年三月份公开表示：如果不将光刻机卖给，三年之后，就会掌握光刻技术，十五年之后，ASML公司或将从光刻机市场败退。
然而，让所有人没想到的是，曾在过去一年之内五次示好我国市场，并声称将克服一切困难将先进光刻机卖给企业的ASML公司，在我国光刻机取得重技术突破之际，做了一个“反向”决定。
近日，据美媒报道，ASML公司正式做出决定，将于2021年12月搬进位于美国东南凤凰城钱德勒办公楼。值得一提的是，美国本土芯片制造巨头英特尔也在这个地方，ASML公司搬到这里，意图非常明显，帮助美国企业提升芯片制造能力。
笔者认为，ASML公司做出的这个“反向”决定，将会随着光刻机的崛起，让其付出惨重的代价，毕竟截止至目前，还有没发生过一件人承诺而未兑现的事情。
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